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商务部、海关总署公告2008年第111号－－公布《两用物项和技术进出口许可证管理目录》[失效]

　　(b)专门设计或制造的用于使离子交换铀浓缩级联中所用化学氧化剂再生的化学或电化学氧化系统。
　台
　　离子交换浓缩过程可使用例如Ti+3作为还原阳离子, 在这种情况下，所用还原系统将通过还原Ti+4使Ti+3再生。　　
　　离子交换浓缩过程可使用例如Fe+3作为氧化剂, 在这种情况下, 所用氧化系统将通过氧化Fe+2来使Fe+3再生。　　
105专门设计或制造的用于使离子交换铀浓缩级联中所用化学还原剂再生的化学或电化学还原系统。　　台
106专门设计或制造的用于使离子交换铀浓缩级联中所用化学氧化剂再生的化学或电化学氧化系统。　　台


　　8、专门设计或制造用于以激光为基础的浓缩工厂的系统、设备和部件
107铀蒸发系统(AVLIS)专门设计或制造的铀蒸发系统。这些系统含有大功率条带式或扫描式电子束枪, 打到靶上的能量大于2.5 kW/cm。　台
108液态铀金属处理系统(AVLIS)专门设计或制造由一些坩埚及其冷却设备组成用于处理熔融铀或铀合金的液态金属处理系统。　台
这种系统的坩埚和其他接触熔融铀或铀合金的部分，要用有适当的耐腐蚀和耐高温性能的材料制成或保护。适当的材料包括钽、氧化钇涂敷石墨、用其他稀土氧化物或其混合物涂敷的石墨。
109铀金属“产品”和“尾料”收集器组件(AVLIS)专门设计或制造用于收集液态或固态铀金属的“产品”和“尾料”收集器组件。　台
这些组件的部件由耐铀金属蒸气或液体的高温和腐蚀性的材料（例如氧化钇涂敷石墨或钽）制成或保护。这类部件可包括用于磁、静电或其他分离方法的管、阀、管接头、“出料槽”、进料管、热交换器和收集板。
110分离器组件外壳(AVLIS)专门设计或制造的圆筒状或矩形容器, 用于容纳铀金属蒸气源、电子束枪, 及“产品”与“尾料”收集器。　台
这些外壳有多种样式的开口, 用于供电线路、供水管、激光束窗、真空泵接头及仪器仪表诊断和监测。这些开口均设有开闭装置, 以便整修内部的部件。　
111超声膨胀喷嘴(MLIS)专门设计或制造的超声膨胀喷嘴，用于冷却UF6与载气的混合气至150K或更低的温度。这种喷嘴耐UF6腐蚀。　台
112五氟化铀产品收集器(MLIS)专门设计或制造的UF5固态产品收集器。这种收集器是过滤式、冲击式或旋流式收集器, 或其组合; 并且耐UF5/UF6环境的腐蚀。　台
113UF6/载气压缩机(MLIS)为在UF6环境中长期操作而专门设计或制造的UF6/载气混合气压缩机。这些压缩机中与过程气体接触的部件用耐UF6腐蚀的材料制成或保护。8414809020台
114转动轴封(MLIS)专门设计或制造的带密封进气口和出气口的转动轴封，用于密封把压缩机转子与驱动马达连接起来的转动轴, 以保证可靠的密封, 防止过程气体外漏，或空气或密封气体漏入充满UF6/载气混合气的压缩机内腔。8484200030千克
115氟化系统(MLIS)专门设计或制造的用于将UF5(固体)氟化为UF6(气体)的系统。　台
　　这些系统是为将所收集的UF5粉末氟化为UF6而设计的。其UF6随后将被收集于产品容器中, 或作为进料被转送到为进行进一步浓缩而设置的MLIS单元中。在一种方案中, 这种氟化反应可在同位素分离系统内部完成, 以便一离开“产品”收集器便反应和回收。在另一种方案中, UF5粉末将被从“产品”收集器中移出/转送到一个适当的反应容器(例如流化床反应器、螺旋反应器或火焰塔式反应器)中进行氟化。在这两种方案中, 都使用氟气(或其他适宜的氟化剂)贮存和转送设备, 以及UF6收集和转送设备。　　
116UF6质谱仪/离子源（MLIS）专门设计或制造的磁质谱仪或四极质谱仪, 这些质谱仪能从UF6气流中“在线”取得供料、“产品”或“尾料”的样品, 并且具有以下所有特点:9027801910台
1. 质量的单位分辨率高于320；
2. 离子源用尼赫罗姆合金或蒙乃尔合金制成或以这些材料作为衬里或镀镍；
3. 电子轰击离子源；
4. 有一个适合于同位素分析的收集器系统。
117进料系统/产品和尾料提取系统(MLIS)为浓缩厂专门设计或制造的工艺系统或设备, 用耐UF6腐蚀的材料制成或保护, 包括:　台
(a) 进料釜、加热炉或系统, 用于将UF6送入浓缩过程;
(b) 凝华器(或冷阱), 用于从浓缩过程中移出UF6, 供下一步加热转移;
(c) 固化或液化器, 用于通过压缩UF6并将其转换为液态形式或固态形式, 浓缩过程中移出UF6;
(d) “产品”器或“尾料”器, 用于把UF6收集到容器中。
118UF6/载气分离系统(MLIS)为将UF6从载气中分离出来专门设计或制造的工艺系统。载气可为氮、氩或其他气体。　台
　　注释　　
　　这类系统可装有如下设备：　　
　　(a)低温热交换器或低温分离器, 能承受-120℃或更低的温度; 或　　
　　(b) 低温冷冻器, 能承受-120℃或更低的温度; 或　　
　　(C) UF6冷阱，能承受-20℃或更低的温度。　　
119激光系统(AVLIS，MLIS和CRISLA)为铀同位素分离专门设计或制造的激光器或激光系统。9013200020个
　　AVLIS过程使用的激光系统通常由两个激光器组成: 一个铜蒸气激光器和一个染料激光器。MLIS使用的激光系统通常由一个CO2激光器或受激准分子激光器和一个多程光室(两端有旋转镜)组成。这两种过程使用的激光器或激光系统都需要有一个谱频稳定器以便能够长时间地工作。　　


　　9、专门设计或制造的用于等离子体分离浓缩厂的系统、设备和部件
120微波动力源和天线为产生或加速离子专门设计或制造的微波动力源和天线，具有以下特性：频率高于30 GHz，且用于产生离子的平均功率输出大于50 kW。　台
121离子激发线圈专门设计或制造的射频离子激发线圈，其频率高于100 kHz，且能够输送的平均功率高于40 kW。　台
122铀等离子体发生系统为产生铀等离子体专门设计或制造的系统，这种系统可装有高功率条带式或扫描式电子束枪，打到靶上的能量高于2.5 kW/cm。　台
123液态铀金属操作系统专门设计或制造的用于熔融的铀或铀合金的液态金属操作系统，包括坩埚和坩埚用冷却设备。　台
　　这种系统中与熔融的铀或铀合金接触的坩埚和其他部件由适当的抗腐蚀和抗热材料构成或由这种材料作防护层。可适用的材料包括钽、有钇涂层的石墨、有其他稀土氧化物或这类氧化物的混合物涂层的石墨。　　
124铀金属“产品”和“尾料”收集器组件专门设计或制造的用于固态铀金属的“产品”和“尾料”收集器组件。这类收集器组件由抗热和抗铀金属蒸气腐蚀的材料构成或由这类材料作防护层，例如有钇涂层的石墨或钽。　台
125分离器组件外壳专门设计或制造的圆筒形容器，供等离子体分离浓缩厂用来容纳铀等离子体源、射频驱动线圈及“产品”和“尾料”收集器。　台
这种外壳有多种形式的开口，用于供电线路、扩散泵接头及仪器仪表诊断和监测。这些开口设有开闭装置，以便整修内部部件；它们由适当的非磁性材料例如不锈钢构成。


　　10、专门设计或制造的用于电磁浓缩厂的系统、设备和部件
126同位素电磁分离器及部件为分离铀同位素专门设计或制造的同位素电磁分离器及其设备和部件包括：8401200000个/千克
　　（a） 离子源　　
　　专门设计或制造的单个或多个铀离子源由蒸气源、电离器和束流加速器组成，用石墨、不锈钢或铜等适当材料制造，能提供总强度为50mA或更高的离子束流。　　
　　（b） 离子收集器　　
　　收集器板极由专门为收集浓缩和贫化铀离子束而设计或制造的两个或多个槽和容器组成，用石墨或不锈钢一类的适当材料制造。　　
　　（c） 真空外壳　　
　　为铀电磁分离器专门设计或制造的真空外壳，用不锈钢一类适当的非磁性材料制造，设计在0.1Pa或以下的压力下运行。　　
　　（d） 磁极块　　
　　专门设计或制造的磁极块，直径大于2m，用来在同位素电磁分离器内维持恒定磁场并在毗连分离器之间传输磁场。　　
127离子源专门设计或制造的单个或多个铀离子源由蒸气源、电离器和束流加速器组成，用石墨、不锈钢或铜等适当材料制造，能提供总强度为50mA或更高的离子束流。　台
128离子收集器收集器板极由专门为收集浓缩和贫化铀离子束而设计或制造的两个或多个槽和容器组成，用石墨或不锈钢一类的适当材料制造。　台
129真空外壳为铀电磁分离器专门设计或制造的真空外壳，用不锈钢一类适当的非磁性材料制造，设计在0.1Pa或以下的压力下运行。　台
　　注释　　
　　外壳专门设计成装有离子源、收集器板极和水冷却管路，并有用于扩散泵连接结构和可用来移出和重新安装这些部件的开闭结构。　　
130磁极块专门设计或制造的磁极块，直径大于2m，用来在同位素电磁分离器内维持恒定磁场并在毗连分离器之间传输磁场。8505190010千克
131高压电源为同位素电磁分离器离子源专门设计或制造的高压电源，具有以下所有特点：能连续工作，输出电压为20000V或更高，输出电流为1A或更大，电压稳定性在8小时内高于0.01%。8504401940个
132磁体电源专门为同位素电磁分离器设计或制造的高功率直流磁体电源，具有以下所有特点：能在100V或更高的电压下持续产生500A或更大的电流输出，电流或电压稳定性在8小时内高于0.01%.8504401910个
　　　　　
　（七）、生产或浓集重水、氘和氘化物的工厂和专门为其设计或制造的设备　　
133水-硫化氢交换塔专门设计或制造用于利用GS法生产重水的、用优质碳钢(例如ASTMA516)制造的交换塔。该塔直径6m(20ft)至9m (30ft), 能够在大于或等于2MPa (300psi) 压力下和6mm或更大的容许腐蚀量下运行。　台
134鼓风机专门为利用GS法生产重水而设计或制造的用于循环硫化氢气体(即含H2S 70%以上的气体)的单级、低压头(即0.2 MPa或30psi)离心式鼓风机。这些鼓风机的气体通过能力大于或等于56m3/s (120000 SCFM), 能在大于或等于1.8 Mpa (260 psi)的吸入压力下运行，并有对湿H2S介质的密封设计。8414599040台
135压缩机专门为利用GS法生产重水而设计或制造的用于循环硫化氢气体(即含H2S 70%以上的气体)的单级、低压头(即0.2 MPa或30psi)离心式压缩机。这些压缩机的气体通过能力大于或等于56m3/s (120000 SCFM), 能在大于或等于1.8 Mpa (260 psi)的吸入压力下运行，并有对湿H2S介质的密封设计。8414809030台
136氨-氢交换塔专门设计或制造用于利用氨-氢交换法生产重水的氨-氢交换塔。该塔高度大于或等于35m(114.3ft), 直径1.5m(4.9ft)至2.5m(8.2ft), 能够在大于15MPa (2225psi) 压力下运行。这些塔至少都有一个用法兰联结的轴向孔，其直径与交换塔筒体直径相等，通过此孔可装入或拆除塔内构件。　台
137塔内构件专门为利用氨－氢交换法生产重水而设计或制造的塔内构件。塔内构件包括专门设计的促进气/液充分接触的多级接触装置。　台
138氨裂化器专门设计或制造的用于利用氨-氢交换法生产重水的氨裂化器。该装置能在大于或等于3MPa (450psi)的压力下运行。　台
139红外吸收分析器能在氘浓度等于或高于90%的情况下“在线”分析氢/氘比的红外吸收分析器。　台
140催化燃烧器专门设计或制造的用于利用氨-氢交换法生产重水时将浓缩氘气转化成重水的催化燃烧器。　台
141整体重水提浓系统，或其蒸馏塔专门设计或制造用于将重水提浓至反应堆级氘浓度的整体重水提浓系统，或其蒸馏塔。　台
　　注释　
　　通常采用水蒸馏技术从轻水中分离重水的这些系统是专门设计或制造用于由浓度较低的重水原料生产反应堆级重水的（即典型地99.75%氧化氘）。　
142多级泵专门为利用氨－氢交换法生产重水而设计或制造的多级泵。多级泵包括专门设计的用来将一个接触级内的液氨向其他级塔循环的水下泵。8413810020台

　　（八）、分别如第（五）和（六）所定义的用于燃料元件制造和铀同位素分离的铀和钚转换厂和专门为其设计或制造的设备
143为将UO3转化为UF6而专门设计或制造的系统从UO3到UF6的转化可以直接通过氟化实现。该过程需要一个氟气源或三氟化氯源。　台
144为将UO3转化为UO2而专门设计或制造的系统从UO3到UO2的转化，可以用裂解的氨气或氢气还原UO3来实现。　台
145为将UO2转化为UF4而专门设计或制造的系统从UO2到UF4的转化，可以用氟化氢气体(HF)在300-500℃与UO2反应来实现。　台
146为将UF4转化为UF6而专门设计或制造的系统从UF4到UF6的转化，可以用氟气在塔式反应器中与UF4发生放热反应来实现。使流出气体通过一个冷却到-10℃的冷阱把热的流出气体中的UF6冷凝下来。该过程需要一个氟气源。　台
147为将UF4转化为金属铀而专门设计或制造的系统从UF4到金属铀的转化, 可用镁(大批量)或钙(小批量)还原UF4来实现。还原反应一般在高于铀熔点(1130℃)的温度下进行。　台
148为将UF6转化为UO2而专门设计或制造的系统从UF6到UO2的转化，可用三种方法来实现。在第一种方法中，用氢气和水蒸气将UF6还原并水解为UO2。在第二种方法中, 通过溶解在水中而将UF6水解, 然后加入氨沉淀出重铀酸铵, 接着可在820℃用氢气将重铀酸铵还原为UO2。在第三种方法中, 将气态UF6、CO2和NH3通入水中, 结果沉淀出碳酸铀酰铵。在500-600℃, 碳酸铀酰铵与水蒸气和氢气发生反应, 生成UO2。　台
从UF6到UO2的转化, 通常是燃料制造厂的第一个工序。
149为将UF6转化为UF4而专门设计或制造的系统从UF6到UF4的转化, 是用氢还原实现的。　台
150为将UO2转化为UCl4而专门设计或制造的设备从UO2到UCl4转化可通过两个流程之一来实现。在第一个流程中, 在大约400℃的温度下, UO2与四氯化碳(CCl4)发生反应。在第二个流程中, 在大约700℃的温度下，以及存在碳黑(CAS1333-86-4)、一氧化碳的条件下, UO2与氯发生反应产生UCl4。　台
151为将硝酸钚转化到氧化钚而专门设计或制造的设备该流程包括的主要功能为：流程供料贮存和调料、沉淀和固-液分离，煅烧、产品处理、通风、废物管理，以及流程控制。流程系统经过特别的设计，以避免发生临界和辐射效应，以及使得毒性危险最小。在大多数后处理设施中，这一流程包括将硝酸钚转化到氧化钚。其它流程可能包括草酸钚或过氧化钚的沉淀。　台
152为生产钚金属而专门设计或制造的设备该流程通常包括氧化钚的氟化，通常以高腐蚀性的氢氟酸来生产氟化钚，而后用高纯钙金属还原生成金属钚和氟化钙残渣。该流程所包括的主要功能是氟化（例如，包括采用贵重金属制造的或作为内衬的设备）、金属还原（例如，使用陶瓷坩埚）、残渣回收、产品处理、通风、废物管理和流程控制。流程系统经过特别的设计，以避免发生临界和辐射效应，以及使得毒性危险最小。其它流程包括草酸钚或过氧化钚的氟化，然后还原成金属。　台

　　二、核两用品及相关技术出口管制清单所列物项和技术
　　(一)、工业设备
　　1、机床及有关技术、软件
1滚压成形机床1．装有3个或3个以上压辊的(主动的或导向的)；
　　2．按照制造厂的技术规格可配备“数控”单元或计算机控制器的；
　　说明：包括那些只有一个用来使金属成形的压辊和两个用来支撑芯轴但不直接参加成形过程的辅助压辊的机床.		8463900010台
2滚压成形机床用芯轴转筒成形用的芯轴，用其制成内径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之间的圆柱形转筒.8466940010千克
3具有滚压功能的旋压成形机床1．装有3个或3个以上压辊的(主动的或导向的)；和
　　2．按照制造厂的技术规格可配备“数控”单元或计算机控制器的；
　　说明：包括那些只有一个用来使金属成形的压辊和两个用来支撑芯轴但不直接参加成形过程的辅助压辊的机床.		8463900020台
4具有滚压功能的旋压成形机床用芯轴转筒成形用的芯轴，用其制成内径在75毫米(3英寸)至400毫米(16英寸)之间的圆柱形转筒.8466940020千克
5用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的车床对于加工件大于直径35毫米的车床，“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线坐标可达到优于0.006毫米(总定位精度)。　台
说明：不包括仅加工贯穿进给的棒料，棒料最大直径等于或小于42毫米，并且无固定卡盘的棒料车床。车床可对直径小于42毫米的加工零件进行钻、铣加工。
6用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的铣床

　　这些铣床具有下述任何一种特性：		　台
（1）“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线座标可达到优于0. 006毫米(总定位精度)；或　
（2）有2个或更多个成形旋转轴。
说明：本条目不管制具有下述特性的铣床：
A. x轴行程大于2米；和
B. 沿x轴的总“定位精度”劣于0. 030毫米。
7用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的磨床

　　这些磨床具有下述任何一种特性：		　台
　　（1）“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线坐标可达到优于0. 004毫米(总定位精度)；或　
　　（2）有2个或更多个成形旋转轴。　
　　说明：不包括下列磨床：　
　　A. 具有下列所有特征的外圆、内圆和内外圆磨床：　
　　--限于磨圆柱面;　
　　--最大工件外径或长度为150毫米；　
　　--能同时调整进行“成形控制”的轴不超过2个；和　
　　--无成形 c轴。　
　　B. 仅有x、y、c和 a轴的坐标磨床，其中c轴用于保持磨轮垂直于工件表面，配备a轴是为了磨筒形凸轮。　
　　C. 带有为生产工具和刀具专门设计的软件的工具磨床或刀具磨床。　
　　D. 曲轴磨床或凸轮轴磨床。　
8用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料，根据制造厂的技术说明书，可以配备沿2个或更多个轴同时进行“成形控制”的电子装置的无线型放电加工机床具有2个或更多个成形旋转轴并能同时调整进行“成形控制”。8456301010;8456309010台
9为滚压成形机床和具有滚压功能的旋压成形机床和芯轴专门设计的软件　　　
10为“研制”、“生产”或“使用”核两用品及相关技术出口管制清单第一部分的“数控”单元、“数控”机床而专门设计或修改的软件。说明:　　
（1）不管是单独出口的还是装在“数控”单元或任何电子装置或系统中的软件都要受到管制。
（2）控制单元或机床的制造厂专门为操作非受控机床而设计或修改的软件不受管制。
11供电子装置或系统的任一组合使用的软件使该装置起“数控”单元的作用，从而能控制5个或更多个能同时调整进行“成形控制”的内插轴。　　
说明:
（1）不管是单独出口的还是装在“数控”单元或任何电子装置或系统中的软件都要受到管制。
（2）控制单元或机床的制造厂专门为操作非受控机床而设计或修改的软件不受管制。

　　2、尺寸检测仪、装置或系统，以及为此专门设计的软件：
12计算机控制的尺寸检测仪或数控的尺寸检测机：具有下述两种特性的计算机控制的尺寸检测仪或数控的尺寸检测机：　台
　　1．有2个或更多个轴；和　
　　2．使用“精度”优于0.2微米的探头检测时，一维长度的“测量误差”等于或小于(1.25+L/1000)微米(L是所测长度，单位：毫米) 　
13长度测量仪具有下述任何一种特性的长度测量仪：　台
　　（1）非接触型测量系统，测量范围不超过0.2毫米时，其“分辨率”等于或优于0.2微米；　
　　（2）具有下述两种特性的线性可变差动变压器系统：　
　　A. 测量范围不超过5毫米时，其“线性度”等于或优于0.1%; 和　
　　B. 在标准环境试验室温度变化为± 1K时，每天漂移量等于或小于0.1%; 或　
　　（3）具有下述两种特性的测量系统：　
　　A. 装有“激光器”；　
　　B. 在温度变化为± 1K的标准温度和标准压力下，保持至少12小时时：　
　　全量程的“分辨率”为0.1微米或更高;和　
　　“测量误差”等于或小于 (0.2 +L/2000) 微米(L是所测长度，单位：毫米)；以下除外：用干涉仪系统测量，无闭环或开环反馈，装有“激光器”，用以测量机床、尺寸检验仪或相似设备的滑板运动误差 
14角度测量仪其“角位偏差”等于或小于0.00025度。　台
说明：不管制诸如自动准直仪之类的光学仪器，例如使用平行光检测反射镜角位移的自动准直仪。
15检查半壳件的线－角度位移的系统具有下述两种特性的同时检查半壳件的线－角度位移的系统：1、沿任一轴向线度的“测量误差”，每毫米等于或小于3. 6微米；和　台
　　2．“角位偏差”等于或小于0.03度。　
16为尺寸检测仪、装置或系统专门设计的软件为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分尺寸检测仪、装置或系统专门设计的软件（包括用于同时测量壁厚和轮廓的软件）　　
17“机器人”或“末端操纵装置”（一）按照国家安全标准专门设计，能用于处理高能炸药(例如，满足高能炸药电气法规标称值)；或
　　（二）专门设计或定为抗辐射的，能经受大于5×104戈瑞(硅) [5×106拉德(硅)]辐射而不会降低使用性能		8479509010台
18为“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的控制器为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分所述的“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的控制器8537109021个/千克
19为“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的软件为核两用品及相关技术出口管制清单第一部分所述的“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的软件　　
　　　　　
　3、振动试验系统、设备、部件及其软件　　
20使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统能在20赫兹至2000赫兹之间产生10克均方根或更大的振动，并施加50千牛(11250磅)(“空台”测量)或更大的力。8479899950台
21数字控制器装有为振动试验专门设计的软件，实时频宽大于5千赫，同“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统一起使用。8537109022个/千克
22振动启动器（振动装置）装有或不装有辅助放大器，能施加50千牛(11250磅)(“空台”测量)或更大的力，可用于“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统。　台
23试验部件支承结构和电子学装置用来把多台振动装置联成一完整的振动器系统，以便能提供50千牛(“空台”测量)或更大的有效合力，可用于“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统。　台
24受控电子学装置专门设计的软件同“使用反馈或闭环控制技术和数控装置的电动式振动试验系统”所述的受控系统一起使用或为“试验部件支承结构和电子学装置”所述的受控电子学装置专门设计的软件　　


第 [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7] [8] [9] 页 共[10]页
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